合肥国家实验室超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目单一来源采购公示 一、项目信息 采购人：合肥国家实验室 项目名称：合肥国家实验室超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目 拟采购的货物或服务的说明：合肥国家实验室拟购置一台超高真空磁控溅射镀膜系统 拟采购的货物或服务的预算金额：.人民币 采用单一来源采购方式的原因及说明：高维超导量子比特研究，需要高质量的超导量子芯片。超导量子芯片一般包括外电路和约瑟夫森结，其中外电路可以用很多的材料来制备，包括、、、超导薄膜等。哪种材料是最佳的超导芯片外电路材料，目前还是一个悬而未决的问题。因此，我们需要对各种材料的生长条件、性质进行探索、测量，从中获得提升超导量子芯片性能的有利信息。最近的研究表明，高温下磁控溅射生长的膜对于超导量子芯片的性能有很大的提升。磁控镀膜系统是一种成熟的制备薄膜的系统，在半导体等研究领域有着广泛的应用。但由于超导材料对系统的洁净度、真空度、溅射速率等有很高的要求，低背景真空、差的洁净度等不利因素，将会严重影响超导薄膜的质量，从而影响超导量子芯片的性能，因此，需要专用的高真空磁控镀膜系统来制备我们高纬度量子芯片所需要的外电路薄膜。 .送样清洗室： 最高加热温度℃的吋样品台，控制精度+/-.℃，温度均匀性%； 离子铣：套霍夫曼离子束刻蚀组件，"均匀性+/-%； 全自动高真空高精度样品传输杆,全自动传输样品,精度.; 极限真空度&;^-。 .溅射室： 单靶枪，英寸金属密封磁控溅射枪，靶材快拆设计； 稳定工作压力&;.；工艺气体流量控制； 样品与靶间工作距离~吋软件自动化设置； 电源； 最高加热温度℃的吋样品台，控制精度+/-.℃，温度均匀性%； 超高真空冷泵，极限真空度&;^-； 自控多路冷却水系统。 目前市场上有不少的磁控溅射系统，用来制备各种薄膜，但用于超导薄膜制备的磁控溅射系统由于对背景真空要求很高，因此，满足制备超导薄膜制备的磁控溅射镀膜设备不是很多。经前期广泛的市场调研，目前国内和我们提出的系统参数和指标一致的只有一家---厦门韫茂科技有限公司，相较于其他供应商只有该公司能够满足“最高加热温度....