化学机械平面抛光
项目所在采购意向：
中国科学院西安光学精密机械研究所年月政府采购意向
采购单位：
中国科学院西安光学精密机械研究所
采购项目名称：
化学机械平面抛光
预算金额：
.万元(人民币)
采购品目：
工艺试验机
采购需求概况 ：
半导体材料生长薄膜具有一定的不均匀性，特别是晶圆刻蚀后，光波导上包层生长沉积工艺中，晶圆上存在高低起伏的形貌，无法对晶圆进行多层薄膜的生长加工。为实现大规模的三维光子芯片加工，或在晶圆上镀金形成电极实现光芯片的电子调控，就必须对晶圆的表面进行平坦化处理。实现该工艺的核心设备是化学机械抛光设备，因此，为完善平台工艺，新增化学机械抛光设备是完全必要的。
预计采购时间：
-
备注：
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
发布媒体:
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