为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔〕号）等有关规定，现将本单位年月至年月采购意向公开如下：
序号
采购项目名称
采购需求概况
落实政府采购政策情况
预算金额(元)
预计采购时间
备注
采购镀膜设备---低压化学气相沉积设备项目
标的名称：采购镀膜设备---低压化学气相沉积设备项目
标的数量：
主要功能或目标：主要功能： 本设备主要用于半导体集成电路及分立器件的氧化等工艺。 通过卧式氧化炉与工艺的结合使用，可以形成一个完整的半导体制造工艺链。并进一步提升工艺的兼容性，使得整个制造过程更加高效和可靠。 目的： 该设备生成的氧化层可以作为这些材料的沉积基底，可以制造出具有优异性能的半导体器件，满足各种高科技产品的需求。
需满足的要求：基本硬件配置： 主机柜（含基本工艺腔室),净化工作台,气路气源柜系统,真空及压力控制系统、计算机控制系统、自动化模块、加热炉体及其配套硬件。 适用晶圆要求：英寸 工艺性能基本要求： ①极限真空度≤×-；工作真空度应在～且范围内可调；压力测量范围在～之间。 ②适配以下四类工艺条件：热氧化、多晶硅、-、。 ③膜厚均匀性： 热氧化
落实国家关项目于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残疾人福利性单位、贫困地区农副产品等政策情况
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年月
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
广东中科半导体微纳制造技术研究院
年月日
发布媒体:
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