中国科学院微电子研究所关于八英寸晶圆级氮化硅低压化学气相沉积设备招标预告

八英寸晶圆级氮化硅低压化学气相沉积设备 项目所在采购意向： 中国科学院微电子研究所年至月政府采购意向 采购单位： 中国科学院微电子研究所 采购项目名称： 八英寸晶圆级氮化硅低压化学气相沉积设备 预算金额： .万元(人民币) 采购品目： -电子工业生产设备 采购需求概况 ： 拟购置的“八英寸晶圆级氮化硅低压化学气相沉积设备”主要用于环栅纳米等型结构器件关键集成工艺的研发，在器件三维结构上生长不同化学计量比、不同折射率和不同厚度的高纯度、高致密度和高保形性的氮化硅薄膜，且在纳米线湿法工艺中对的湿法腐蚀具有非常高的选择比。关键核心工艺包括替代栅（）两侧的氮化硅侧墙，器件中的氮化硅内侧墙及层间介质（）。氮化硅低压化学气相沉积设备可以沉积高纯度、高致密度、高保形性的高质量的氮化硅薄膜，满足器件的先导工艺的研发需求，是解决新结构器件关键技术研发挑战问题的最佳选择。 预计采购时间： - 备注： 本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。