无掩膜激光直写光刻机 项目所在采购意向: 南京大学年至月政府采购意向 采购单位: 南京大学 采购项目名称: 无掩膜激光直写光刻机 预算金额: .万元(人民币) 采购品目: 半导体器件参数测量仪 采购需求概况 : 南京大学拟采购无掩膜激光直写光刻机一套,主要用于微纳尺度下,直接通过计算机控制激光束进行高精度、定制化的复杂二维或三维结构加工与制备。主要采购需求如下:)工作方式:无掩膜激光直写光刻;)最大曝光面积:≤*;)最大基板厚度:;)极限解析:≤;)套刻精度:≤@;)主动聚焦范围:≥±μ;)线宽均匀性:≤ @;)曝光区域温度稳定性:± . ℃;)曝光面能量均匀性:≤%;)最大产能:≥/ @.μ;)光源:光源,功率,波长;)具备自动对准功能;)具备自定义标记对准功能;)具备可视化定点曝光功能;)具备不规则样片曝光功能;)质保期:年。 预计采购时间: - 备注: 本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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